“3号擂台！第四场次，7班雷诺·艾萨克同学和1班伊芙琳·斯坦丁同学无限制比斗，现在正式开始！”
擂台之上的魔法禁锢瞬间解除，同时在擂台边缘位置，升起一道肉眼可见的魔法屏障。
台上的雷诺和伊芙琳在听到裁判说出开始的那一刻，几乎在同一时间举起手中魔法杖。
两道颜色各异的魔法光辉同时亮起。
雷诺在挥动魔法杖释放魔法光弹的同时，身体几步侧移，阻止对方魔法对他的精神力锁定。
雷诺对面的伊芙琳也是如此，在释放魔法的同时，身体变换了几个位置，同样躲避了雷诺的魔法攻击。
伊芙琳释放的魔法光箭，率先掠过雷诺的身旁，撞在后方的魔法屏障之上。
雷诺释放的魔法光弹，在速度上稍逊魔法光箭一筹，也在其后撞在擂台边缘的魔法屏障之上。
伊芙琳凭借着魔法光箭的速度优势，继续施法，先一步雷诺，释放出魔法光箭，来攻击对面的雷诺。
此时，雷诺和伊芙琳在擂台上相距的距离，已经由原来的20米，缩短到了只有16米的距离。
在第一回合躲避魔法的同时，雷诺和伊芙琳两人不约而同的往擂台中央靠拢。
雷诺在移动身体躲避对方魔法的同时，也释放出一枚魔法光弹，继续朝着伊芙琳攻去...
雷诺和伊芙琳就在擂台上不停的变换位置，在躲避对方魔法的同时，两人之间的距离正在逐渐靠近。
当雷诺和伊芙琳相距只剩下最后十米之时，雷诺和伊芙琳仿佛各自读懂了对方的心思，不约而同的放弃了相互之间的魔法试探。直接进入下一个环节，开启了最精彩的魔法对拼阶段。
雷诺和伊芙琳施展二次施法中的极限施法，两人手中的魔法杖频频挥动，一道道基础魔法，在双方精神力的催动下，犹如连珠炮，朝着对方的身体所在之地而去。
通常情况下，魔法师在施展二次施法中的极限施法情况下，为了提升释放魔法的速度，同时控制场中两个或者更多的魔法。就没有更多的精神力去控制已经释放魔法的飞行轨迹，一般都会采用预判或者精神锁定的方式来进行攻击。
这样一来，所释放出去的魔法，就会相对应的降低魔法的准确度。
雷诺一开始上台和伊芙琳试探时的单个施法，可以比做是精确制导。有着精神力的引导，指哪打哪。尤其是中途时，还可以消耗一些精神力，来做到魔法的稍稍变轨，提升魔法的准确性。
二次施法中的极限施法，就可以看作是用火力覆盖来打击对手。精度不够，数量来凑，很好的解释了雷诺现如今的局面。
极限施法状态下，雷诺凭借着6帧左右的速度，释放着一个个的魔法光弹。