第二天。
高新区，东海微电子公司。
叶云明来到了这家在龙国范围内，唯一具有生产出dUV光刻机的公司——虽然他们的光刻机还不是特别好用。
随后他就以‘龙国芯片联盟’会长的身份，要深入研发一线，带领该公司上千名的研发人员，找出dUV光刻机所存在的问题，解决掉一切隐患，争取在较短时间内，把光刻机的稳定性可靠性提升上去，不再让光刻机成为龙国芯片产业的薄弱环节。
故而叶云明也穿上了一身防尘服，让人给他准备了一张单人床，这些天都要吃喝住在工厂，直到把光刻机的问题解决为止。
对他的这番做法，东海微电子公司的大部分技术人员，都是欢欣鼓舞、士气大增，可谓军心大振。
但……
也有少部分的资深技术人员，颇有微词，心里不是很爽，甚至有强烈的吐槽冲动。
要知道光刻机内部的高精密零件，超过10万个之多。
工作时环境要求复杂且苛刻，十公里外的火车震动，都可能会给它的加工精度带来影响。
光刻机用的反射镜，其表面的高低误差，不得超过1纳米，即几个原子的直径。
还有光源的问题。
散热的设计。
双工件工作台的控制精度。
误差纠正与自检测系统等。
每一个的技术细节，都具有极高的难度。
总的制造难度，确实不亚于研制出氢弹。
即便如此。
他们还是只用了大概一千个的日夜，就把所有难题都攻克了，成功造出了可以使用的国产dUV光刻机——当然里面也有许多配件厂商的功劳。
虽然目前的可靠性还不是很高，偶尔会出一些故障，以及误差累积等原因，导致加工出的芯片良率不高，但只要给他们时间不断改进，边用边调整，所有问题最终都会解决——爱斯麦尔公司的dUV光刻机，也是这么走过来的。
然而这位对光刻机不怎么了解的叶总一来，就要带领他们解决可靠性不高的问题，说实话，这是对他们过去上千个日夜努力工作的否定和侮辱，光刻机不是小孩过家家的玩具，不是什么外行人都能指点江山一二。
即便叶云明这位外行，是完美超导材料技术的发明者，即便他们所研制的这款dUV光刻机，内部也用了不少超导材料，明显降低了光刻机的研制难度。
但在少数技术人员心里，对叶云明这个年轻人，还是非常不满与不服。
包括东海微电子公司的老板贺光，内心也不是特别欢迎叶云明的到来，有着几分的抗拒与不情愿，但又不得不拿出欢迎配合的态度。
另外，他们也有那么点‘看好戏’的心态，想看看这个叶云明，了解完光刻机极其复杂的内部结构后，对于如何提高工作稳定性，他能拿出什么样的妙招和办法？还是大概率跟他们一样，对许多问题抓耳挠腮、一筹莫展，只能通过实际的芯片生产，去发现具体的问题。
自然而然。
这些人的复杂心态，叶云明压根没时间去理会，他全身心的投入到了对光刻机的研究中。
刚开始三天，他了解清楚了光刻机的内部详细构造，在脑中的思维殿堂里，也构造出了一台光刻机的数学模型。
然后不断的进行推演，暴露问题，再进行优化和改进。
这过程一共持续了七天。
在第十一天，叶云明拿出了他的光刻机改进方案，没有增加多少新的零件，反而减少了1.1万个零件，写了套自己编写的光刻机控制程序，再调整了一些模块的分布位置，增加了不少巧妙设计，使得新款的dUV光刻机，看起来简洁明了，没有丝毫的杂乱无章，反而有种工业美感，看着就觉得很靠谱。